等离子清洗机采用气体作为清洗介质,通过化学反应或物理反应,达到清洗目的。在化学反应里常用的气体有氢气(H2)、氧气(O2)、甲烷(CH4)等,其反应机理主要是利用等离子体里的自由基与材料表面做化学反应。下图为氧等离子体去除有机物的反应过程。
常见的气体为氩气,氩离子在自偏压或外加偏压作用下,被加速产生动能,轰击放在负电极上的被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、环氧树脂或者微颗粒污染物,同时进行表面能活化。反应过程如下:
清洗介质一般为气体,常使用气瓶,通过管道送至设备使用,如果发生气瓶或送气管道、用气设备的泄漏,可能会发生事故,如果使用氢气、甲烷等易燃易爆气体,室内有明火、静电等可能发生火灾、爆炸事故;如果使用氩气,室内通风不良,可能发生窒息事故;如果使用氧气,氧气属于氧化性气体,会增加可燃物的易燃性,如果室内氧气浓度过高,可能会发生火灾事故。1)电气设施线路绝缘因击穿、老化、腐蚀、机械损坏等失效。1)规范气瓶使用,气瓶附件应齐全,并采取防止倾倒的措施。气瓶应定期检测,确保在有效期内。供气管道与用气设备连接牢固。2)如使用氧气,气瓶阀、接头、减压器、软管及设备必须与油、润滑脂及其它可燃物或爆炸物相隔离。严禁用沾有油污的手、或带有油迹的手套去触碰氧气瓶或氧气设备。如使用氢气,建议在使用设备附近设置氢气泄漏报警器。